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Lam RESEARCH（柯林研发)由美国香港人David Lam于1984年创立。Lam 可以理解为林姓衍生出来的公司。（林在闽南语即为Lam的意思，Lam源于华人）
当时业界正处于2inch的机台到3inch的过渡阶段，各家公司也在全力研究64k的dram，要突破64k的制程需要先进的等离子蚀刻来进行，而半导体业界专注于半导体设备的公司不多，因此为David Lam 创造了极佳的机会。
当时美国国会也刚好通过了降低资本税的法条，让美国风险投资产业热络起来，凭着Lam多年在半导体界的销售和管理经验，Lam的等离子蚀刻计量很快就吸引到800，000美元风险投资的融资。
Lam的等离子蚀刻专注于污染控制和可再生环境以及自动化装置，Lam以多晶矽作为主要业务，推出公司第一台产品AutoEtch 480，Lam获得了极大的成功，并于1984年在纳斯达克上市，代号LRCX。
1985年David Lam出售价值2000万美元的股票离开了公司，Lam在david离开后通过专注于技术创新、全球扩张、市场定位和客户服务，在半导体界站稳了步伐，并且也扩大产品开始踏入成绩设备领域。
自1980年代起，日本半导体技术和市场突飞猛进，日本市场和美国市场几乎各占半导体市场的一半份额，Lam也开始和日本公司合作。
在1987年也跟在日本住友金属工业株式会社建立了合作伙伴关系，加强联合研究和销售自己公司产品，Rainbow 4400刻蚀方面的技术和产品。
自1980年代晚期，晶圆代和韩国dram产业开始发展，Lam也进军日本以外的亚洲市场，并在欧洲、美国和日本开设客户支援中心。
在90年代美国半导体产业复苏，亚洲韩国半导体产业蓬勃发展，员工增加到1500人工厂扩大到原先的10倍。
Lam在1990年推出integrity CVD系统，可以将多个制造步骤集成到一个过程中，进而减少了生产时间和成本，该产品获得美国研发杂志的最佳奖项，也在1992年推出首款专利变压器耦合等离子（TCP）技术的产品TCP 9400多晶矽蚀刻系统。
这个系统采用了先进的等离子蚀刻技术，有望实现更高的生产效率、晶片品质和晶片均匀性，这些产品让Lam在1993年的销售额增长了55%达到了惊人的2.65亿美元，净利润达1900万美元，公司也坐稳蚀刻设备商霸主，成为四大半导体设备商之一。
Lam在进入亚洲市场后，于1997年发生了亚洲金融风暴，半导体市场又开始萎缩，不过Lam仍尚未放弃，Lam在1997年并购一家从事化学机械平坦化（CMP）清洁的设备商OnTrak Systems Inc并以cmp和蚀刻重新作为主力发展。
自2000年始，Lam又再次开始发展沉积设备，推出VECTOR PECVD能够制造介电层薄膜沉积制程，能让介电层薄膜非常平滑且无缺陷，能以较低的成本提供与新系统相同的品质保证与效能。
Lam通过收购Novellus Systems这家以创新薄膜沉积和表面处理生产线为业务的设备商，Lam将拥有更多优势来支援半导体工业的关键技术转换，包括先进逻辑和NAND记忆股的3D架构，以及450毫米（mm）晶圆的微缩技术。
Lam也积极与asml合作，目前先进制程euv是不可或缺的机台，但euv在曝光时，会有些叠对效应造成边缘放置误差等问题。
Lam利用开发微影、蚀刻和沉积的协同最佳化技术去与asml合作硬式罩幕沉积制程，能把随机效应造成的局部放置误差降至最低。
截至目前，在超过1亿片采用多重曝光技术（multi- patterning）的晶圆中，有95%是以Lam的设备来制作的，Lam的制作营收，海外营收超过90%，2021Q2财报数据显示以中国的35%居首位，则以17%排名第三，亚洲国家就占了总销售的93%，显示出亚洲半导体市场仍为Lam的营收主力。
最后，泛林集团（Lam Research）是一家半导体设备供应商，将支持全球数字化转型。此外，该公司在向股东返还自由现金方面有着良好的记录。在2021年第四季度，他们以回购和股息的形式向股东返还了惊人的94%的自由现金流，这不是你经常从大型半导体公司听到的。